Diodes Menu Close

Diodes-BCD 雙極製程

 

Diodes-BCD 裝置與製程皆已針對精密類比與功率功能進行最佳化,並提供持續改良與更新的選項,例如:

  • 所有集極基底與射極接面皆由離子注入以進行精確的摻雜控制;
  • 可選擇垂直與橫向 PNP;
  • 可選擇電容器;
  • 雙層金屬化可用於高密度、高電流佈局及掩埋式齊納參考;

雙極製程: